タイトル

開講年度 開講学部等
2024 共通教育
開講学期 曜日時限 授業区分 AL(アクティブ・ラーニング)ポイント YFL育成プログラム
前期集中 集中 講義 5.3  
時間割番号 科目名[英文名] 使用言語 単位数
1001220013 知財展開科目B1(特許法)[Intellectual Property Development SubjectB1] 日本語 1
担当教員(責任)[ローマ字表記] メディア授業
生田 容景
担当教員[ローマ字表記]
生田 容景
区分   対象学生 全学生 対象年次  
ディプロマ・ポリシーに関わる項目 カリキュラムマップ(授業科目とDPとの対応関係はこちらから閲覧できます)
開設科目名(英訳)
特許法(Patent Law)
概要
 知的財産制度の全体像を解説するとともに,企業における知的財産権の創造,保護及び活用のプロセスを解説します。特許制度とは,「発明の保護及び利用を図ることにより,発明を奨励し,もつて産業の発達に寄与することを目的とする(特許権法一条)」発明に関する特別法です。この授業では,この特許法を取扱い,特許制度に関しての法律の理解を基礎とし,特許権の権利の発生から消滅までの権利の一生の解説を行います。
一般目標
1.特許制度に関わる法制度を理解する。
2.特許法の意義とその趣旨を理解する。
3.特許制度について事例や演習を取扱いながら,実践的な能力の育成を目指す。
授業の到達目標
知識・理解の観点
・特許制度の観点から知的財産を把握し,知財マネジメント(創造・保護・活用)の各局面について説明できる。
・知的財産の権利の発生から消滅までについて特許制度の観点から説明できる。
・実用化・事業化の観点から特許制度について理解できる。
思考・判断の観点
・特許権制度について,各局面の事実関係に対応する権利を客観的に把握することができる。
・特許制度の観点から,発明に該当する否かが判断できる。
・特許制度の観点から,特許権の権利範囲を把握することができる。
関心・意欲の観点
・特許制度の客体に関心を持つことができる。
・特許の権利化および実務上の管理に関心を持つことができる。
・特許制度を活用し,初歩的な個別事業戦略立案に関心を持つことができる。
態度の観点
・特許制度を積極的に理解し,権利化を推進することができる。
・特許法の客体把握に自立的な取り組みができる。
・特許の権利化および管理について,入門レベルの処理ができる。
技能・表現の観点
・与えられた課題に沿って,特許法の客体を把握することができる。
・発明について,入門レベルで権利化へのアプローチを検討することができる。
・初歩的な個別事業戦略立案において,特許制度の観点を含めた総合的かつ最適化された企画を行うことができる。
授業計画
【全体】
本科目では、特許制度の趣旨を理解するとともに、出願から権利化までの流れを把握、あわせて特許を取得するための要件について概説します。また実用化・事業化の観点から特許権の効力、特許権が及ぶ範囲に関して理解を深めます。さらに、特許法に関連する国際的な条約に概説し、外国での権利化の流れについて把握します。発明と同質の考案を保護している実用新案制度についても概説します。
項目 内容 授業外指示 授業記録
A B C D E F
第1回 講義概要(ガイダンス)
知的財産制度の概要
講義の進め方や評価方法などについて説明する。知的財産法の全体像を俯瞰するとともに、特許の取得や保護活用の基本についての概要を解説します。 講義資料を参照して復習を行う。授業計画に沿って準備学習を行う。身の回りにある特許製品を探す。
(目安時間:2時間)
【少】(授業時間の15%未満) 【少】(授業時間の15%未満) 【中】(授業時間の15%〜50%) 【少】(授業時間の15%未満) ----- -----
第2回 特許制度の趣旨 特許制度の趣旨・必要性、特許法の目的、特許法の沿革・構成・位置づけなどについて解説します。 講義資料を参照して復習を行う。授業計画に沿って準備学習を行う。身の回りにある特許製品を探す。
(目安時間:2時間)
【少】(授業時間の15%未満) 【少】(授業時間の15%未満) 【中】(授業時間の15%〜50%) 【少】(授業時間の15%未満) 【あり】 -----
第3回 特許法上の発明とは 特許法の保護対象である「発明」の定義や特許を受けることができる者などについて解説します。 講義資料を参照して復習を行う。授業計画に沿って準備学習を行う。身の回りにある特許製品を探す。
(目安時間:2時間)
【少】(授業時間の15%未満) 【少】(授業時間の15%未満) 【中】(授業時間の15%〜50%) 【少】(授業時間の15%未満) 【あり】 -----
第4回 特許取得の要件① 出願から権利までの流れを把握し、特許取得の主な要件(産業上利用、新規性、進歩性など)について解説します。 講義資料を参照して復習を行う。授業計画に沿って準備学習を行う。身の回りにある特許製品を探す。
(目安時間:2時間)
【少】(授業時間の15%未満) 【少】(授業時間の15%未満) 【中】(授業時間の15%〜50%) 【少】(授業時間の15%未満) 【あり】 -----
第5回 特許取得の要件② 新規性喪失の例外、先願主義、国内優先権の主張などについて解説します。 講義資料を参照して復習を行う。授業計画に沿って準備学習を行う。身の回りにある特許製品を探す。
(目安時間:2時間)
【少】(授業時間の15%未満) 【少】(授業時間の15%未満) 【中】(授業時間の15%〜50%) 【少】(授業時間の15%未満) 【あり】 -----
第6回 特許権の効力 特許権が付与されると、どのような効力があるのか、また、その効力がどのような場面で制限されるのかなどについて解説します。 講義資料を参照して復習を行う。授業計画に沿って準備学習を行う。身の回りにある特許製品を探す。
(目安時間:2時間)
【少】(授業時間の15%未満) 【少】(授業時間の15%未満) 【中】(授業時間の15%〜50%) 【少】(授業時間の15%未満) 【あり】 -----
第7回 特許法に関連する国際条約
実用新案制度の概要
特許法に関連する国際的な条約(外国への特許出願)について概説します。発明と同質の考案を保護している実用新案制度についても概説します。 講義資料を参照して復習を行う。授業計画に沿って準備学習を行う。身の回りにある特許製品を探す。
(目安時間:2時間)
【少】(授業時間の15%未満) 【少】(授業時間の15%未満) 【中】(授業時間の15%〜50%) 【少】(授業時間の15%未満) 【あり】 -----
第8回 総括と確認テスト 講義で取り扱った内容をもとに、確認テストを行います。 本科目全体の内容を振り返る。身の回りにある特許製品を探す。
(目安時間:2時間)
----- ----- ----- ----- 【あり】 -----
※AL(アクティブ・ラーニング)欄に関する注 
①A〜Fのアルファベットは、以下の学修形態を指しています。
【A:グループワーク】、【B:ディスカッション・ディベート】、【C:フィールドワーク(実験・実習、演習を含む)】、【D:プレゼンテーション】
【E:振り返り】、【F:宿題】
②【多】、【中】、【少】は授業時間内におけるALが占める時間の割合を指しています。
【多】:授業時間の50%超、【中】:授業時間の15%〜50%、【少】:授業時間の15%未満。「振り返り」と「宿題」については該当する場合に【あり】と表示されます。
成績評価法
【全体】
各種提出物(ワークシート、小レポート、確認テスト)と授業態度・授業への参加度を含めて、総合的に評価します。
【観点別】
知識・理解思考・判断関心・意欲態度技能・表現その他評価割合(%)JABEE収集資料
定期試験(中間・期末試験) --- --- --- --- --- --- --- ---
小テスト・授業内レポート --- --- --- --- 70% ---
宿題・授業外レポート --- 20% ---
授業態度・授業への参加度 --- --- --- --- 10% ---
受講者の発表(プレゼン)・授業内での制作作品 --- --- --- --- --- --- --- ---
演習 --- --- --- --- --- --- --- ---
出席 --- --- --- --- --- --- 欠格条件 ---
その他 --- --- --- --- --- --- --- ---
教科書にかかわる情報
備考
講義資料は必要に応じて配布又は配信します。
参考書にかかわる情報
参考書 書名 標準特許法 第7版 ISBN 978-4-641-24345-3
著者名 高林龍 出版社 有斐閣 出版年 2020
備考
メッセージ
キーワード
特許法、知的財産法。
持続可能な開発目標(SDGs)

  • 働きがいも経済成長も
  • 産業と技術革新の基盤をつくろう
(経済成長と雇用)包摂的かつ持続可能な経済成長及びすべての人々の完全かつ生産的な雇用と働きがいのある人間らしい雇用(ディーセント・ワーク)を促進する。
(インフラ、産業化、イノベーション)強靱(レジリエント)なインフラ構築、包摂的かつ持続可能な産業化の促進及びイノベーションの推進を図る。
関連科目
「知的財産入門」、「ものづくりと知的財産」、「知財情報の分析と活用」、「意匠法」、「商標法」、「不正競争防止法」
連絡先
yklee@yamaguchi-u.ac.jp
オフィスアワー
宇部の常盤キャンパスで業務を行っています(大学研究推進機構 知的財産センター)。
業務の都合で吉田キャンパスに出かけることもありますので、とりあえずはメールでご連絡ください。

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